製品紹介
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製品一覧
研磨パッド
研磨スラリー
コンディショナー
ワーク保持材
製品一覧 PRODUCTS LIST
原子レベルの精度を実現し、業界標準を打ち立てる。
情報化社会の基盤を形成する数々のハイテク製品群。
通信、宇宙、医療など幅広いフィールドに広がっており、もはやコンピュータなくして、快適な社会生活は成り立たないでしょう。
先端技術の大半において、コンピュータシステムが深く関与していることは、改めて説明するまでもありません。その心臓部ともいえるのが半導体デバイスであり、製造工程には1千万分の1mmという原子レベルに達するほどの高精度が要求されています。

ニッタ・ハース株式会社は、ハイクォリティな研磨パッド、スラリー、バッキング材はもとより、コンディショナー、チャックプレートなど数々のCMP用消耗資材を取りそろえることで、新世代デバイスのCMPが最高品質で行えるシステムを提供しています。
とりわけ、特殊な発泡技術とシリコンウェーハで培った技術の融合により優れた研磨性能を発揮する研磨パッドは、スラリーとの相乗効果もあり、極めて優れたプラナリティ、均一性、スクラッチフリーの実現に成功しています。
それにより、ユーザーの要望に対して最高のパフォーマンスを提供しています。

また、LCDガラス基板及びハードディスク等の超精密平面研磨用消耗資材に関しても、日々高まる需要に対応しています。
研磨パッド | Polishing Pad
半導体デバイスにおけるCMP(化学的機械研磨)、またシリコン・ディスク・オプティクス(ガラス)と、様々な用途向けの 研磨パッドを取り揃えています。
研磨スラリー | Polishing Slurry
各種CMPスラリー、シリコンウェーハの製造に用いられる一次研磨、二次研磨、仕上げ研磨用スラリーをラインアップ しています。またSiP・MEMS等の配線材に使用される厚膜Cu研磨に対する要求にもお応えします。
コンディショナー | Conditioner
研磨パッド表面の目立てを行い、スクラッチの発生などを抑えながら安定した研磨を可能とします。
お客様の様々なニーズに応えるために、多くの製品をラインアップしています。
ワーク保持材 | Fixturing
シリコンウェーハ、LCDガラス基板等の被研磨物(ワーク)を保持するもので、 幅広く製品を取り揃えています。お客様のご要望に応じた仕様での製作も可能と なっています。
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