1969年
Rodel Inc. 米国デラウェア州ニューアーク市に設立
1983年
ニッタ（株）
とRodel Inc. （現
Rohm and Haas Electronic Materials CMP Technologies
）によって、合弁会社「ロデール・ニッタ株式会社」（弊社）設立
1984年
Nalco 社（Rodel Inc. 経由）製 スラリー及びRodel Inc.製SUBA™シリーズ 輸入販売開始
TA(Template Assembly) 生産開始
1988年
技術導入により、研磨クロスSUBA™シリーズ 生産開始
1989年
弊社技術により、研磨クロスMH™シリーズ 生産開始
Rodel Inc. CMP分野への研磨システム提供開始
1992年
弊社技術により、マウンティングフィルム材R300 シリーズ 生産開始
1993年
国内デバイスメーカーへの研磨システム提供開始
1995年
Rodel Inc. ISO 9001 取得
技術導入により、三重県にスラリー生産工場（主にCMPスラリー）建設決定
1996年
三重工場 完成
1997年
CMP用スラリー 生産開始
ISO 9001 認証取得
1998年
CMP用パッド（IC™）シリーズ 生産開始
2000年
Rodel Particle Inc. 設立
2001年
ISO 14001 認証取得
2004年
ニッタ・ハース株式会社 に社名変更
2005年
京都工場 完成
2006年
奈良工場より京都工場へ移転
注記：
SUBA™,MH™、IC™は、弊社製品のトレードマークです。
注記：
Rohm and Haas Electronic Materials CMP Technologies は、
Rohm and Haas Company
の一部門です。
